2000 ㎡+
厂房面积
15 +
产品设备
20 +
研发团队
产品展示
PRODUCTS LIST
——
产品展示
PRODUCTS LIST
——
设备可配套
成熟的工艺方案
The equipment can be equipped with mature process solutions.
——
1. 高迁移率IGZO-TFT成套工艺方案
2. 高质量高K材料工艺方案
3. 铁电材料ZrO₂-HfO₂成套工艺方案
4. 低阻氮化钛成套工艺
5. 深通孔工艺recipe定制方案
6. 异形件定制化工艺腔体方案
7. 氧化钇防腐涂层
8. 有机分子层
9. Pt, Ru, Cu, W, Ir金属制程
10. 二次电子发射工艺方案
11. 低温无损制程
12. 微纳光栅
13. 薄膜封装钝化
新闻中心
NEWS CENTER
——
新闻中心
NEWS CENTER
——
-
APL | 上海大学丁星伟教授团队：基于ALD高-k ZrAlOₓ介质的ZTO-TFT与CNTsZTO CMOS反相器研究
高介电常数（high-k）栅介质材料在提升薄膜晶体管（TFT）及互补金属氧化物半导体（CMOS）反相器性能方面具有关键作用。
-
一站式ALD技术平台重塑产业格局，国产替代加速突破“卡脖子”难题
国内企业首推ALD全链解决方案，整合设备、工艺与代工服务，助力半导体、光伏等领域降本增效，推动国产技术自主化进程。
-
一站式ALD技术赋能产业升级，全链解决方案引领行业革新
行业领先企业整合ALD设备与代工服务，以全链条技术能力突破制造瓶颈，助力半导体、新能源等领域客户降本增效，市场份额稳步攀升。
地址
上海市金山区金山卫镇
金石南路2239号5栋
邮箱
dingxingwei@atomic-semi.com
电话
国内贸易部门
丁博18817872921
张博13764605286
国际贸易部门
Lily
dingchatty@163.net
henry@minekingtire.com
+86 13105180338 / +86 13210062791
Copyright © 2023-2026 上海埃拓米半导体有限公司 All Rights Reserved.
Copyright © 2023-2026 上海埃拓米半导体有限公司 All Rights Reserved.
